A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography.

Fotomasken sind Projektionsvorlagen, deren Hauptanwendung die Fotolithografie zur Halbleiterherstellung ist. Sie bestehen üblicherweise aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid (Lithografie mit Licht der Wellenlänge 248 nm bzw. 193 nm Wellenlänge) und sind auf einer Seite mit einer dünnen Chromschicht versehen.