Chemical vapour deposition identifica una tecnica di deposizione che prevede reagenti in fase gassosa che reagiscono alla superficie del substrato a formare un deposito solido. La tecnica permette di crescere sia strati uniformi che depositi "a isole", o una via di mezzo, a seconda dei parametri di deposizione (natura dei precursori, del substrato, temperatura di reazione, ecc...).
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